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多相全程水處理器

多相全程水處理器

  一、多相全程水處理器簡(jiǎn)單介紹

  安徽華強(qiáng)環(huán)保科技有限公司專業(yè)生產(chǎn)多相全程水處理器,循環(huán)冷卻水處理的重要性工業(yè)循環(huán)冷卻水再不斷的循環(huán)使用中,由于水溫升高,水流速的波動(dòng),水的蒸發(fā)濃縮;風(fēng)吹雨淋,灰塵雜物的進(jìn)入而引起的水的濁度上升,以及設(shè)備結(jié)構(gòu)和材料等多種因素的綜合作用,會(huì)產(chǎn)生比直流系統(tǒng)更為嚴(yán)重的沉積物附著、設(shè)備腐蝕和菌藻微生物的滋長(zhǎng)。由此形成的粘泥污垢堵塞管道,使傳熱效率下降,設(shè)備壽命縮短,嚴(yán)重的出現(xiàn)設(shè)備穿孔,甚至被迫停機(jī)。水處理在工業(yè)循環(huán)中起了決定性的作用?!∷谏郎亍⒘魉偌涌?、蒸發(fā)等條件的影響下,會(huì)發(fā)生如下變化:

  1.溫度升高,促使水中的重碳酸鹽分解,產(chǎn)生的二氧化碳從水中溢出,其中的碳酸根離子和水中的鈣離子形成水垢,隨著碳酸根離子濃度的增加,水垢的形成速度加快。同時(shí),溫升又可引起菌藻微生物的大量繁殖。   2.水在循環(huán)流動(dòng)過(guò)程中,不斷蒸發(fā)濃縮,使水中含鹽量增加,加速了水垢的形成。硫酸根離子和氯離子濃度的增加,又會(huì)加速金屬的腐蝕。氯離子還是引起應(yīng)力腐蝕的主要因素。含鹽量的增加,也使水中的微生物生長(zhǎng)所需的營(yíng)養(yǎng)源增加,助長(zhǎng)了微生物的繁殖。

  3.水的流速加大產(chǎn)生熱量增多,這是常見(jiàn)的自然現(xiàn)象。水中的離子由于運(yùn)動(dòng)(布朗運(yùn)動(dòng)),不斷地碰撞金屬壁,形成少量的微晶體,微晶體不斷的變成水晶體形成了覆蓋傳熱面的垢層。與管壁相接觸的溶解氧量相對(duì)增加,加之水的沖刷作用,使腐蝕速度加快;冷卻循環(huán)水與空氣充分接觸,造成水中溶解氧濃度增高至飽和狀態(tài),溶解氧的增高,不僅可以引起均勻腐蝕,而且氧濃度的不均勻分布,還將造成更嚴(yán)重的局部腐蝕。

  4.細(xì)菌、藻類及泥沙的沉積,嚴(yán)重降低了管壁的熱傳導(dǎo),也容易形成氧的濃差電池,促使金屬腐蝕。

  水處理的必要性

  1. 中央空調(diào)冷凝器中如果形成水垢,會(huì)導(dǎo)致冷凝溫度升高,制冷力下降,熱交換率下降,耗電量增大。

  2. 熱水鍋爐、熱交換器;由于水溫變化,會(huì)產(chǎn)生大量水垢,大大影響設(shè)備的熱交換率,減少設(shè)備的使用率。

  3. 洗浴水、游泳池水含有大量的細(xì)菌、藻類,采用水系統(tǒng)全能水處理器,可消除用藥劑方法殺菌而產(chǎn)生對(duì)人體皮膚的副作用。

  4. 循環(huán)水系統(tǒng)中產(chǎn)生的細(xì)菌、藻類及水垢,會(huì)降低管壁的傳熱導(dǎo)。水溫升高蒸發(fā)濃縮,使水的農(nóng)度增加,會(huì)促使金屬腐蝕。

  5. 電廠冷卻水系統(tǒng)由于水質(zhì)補(bǔ)良,會(huì)繁殖大量微生物,其產(chǎn)生的粘液和脫落的藻類可導(dǎo)致冷凝器管內(nèi)生成附著物并發(fā)生腐蝕。

  二、多相全程水處理器產(chǎn)品綜述

  水系統(tǒng)全能處理器(又稱綜合處理器、全程處理器),傳統(tǒng)的循環(huán)水處理方法,為降低水垢的形成,菌、藻類的生成,提高冷凝器的工作效率,系統(tǒng)中需投放大量的除垢、防垢、殺菌、滅藻藥劑,這些藥劑對(duì)水體和環(huán)境造成污染,也會(huì)引起管道及設(shè)備的腐蝕。全能處理器是一種多功能綜合性物化循環(huán)水處理裝置。它可使連續(xù)流動(dòng)的水經(jīng)過(guò)超窄高壓脈沖放電極,利用陰陽(yáng)極間產(chǎn)生的電暈放電,獲得電子溫度很高,而離子溫度很低的非平衡等離子體,即有高速電子轟擊作用,又有電解作用,同時(shí)還有離子體化學(xué)去污等綜合性水處理裝置。

  水系統(tǒng)全能處理器它是對(duì)應(yīng)于水系統(tǒng)中腐蝕、鐵銹、結(jié)垢、細(xì)菌、藻類、懸浮物及二次污染而開(kāi)發(fā)的綜合性水處理器,它集過(guò)去防腐、除銹、防垢、除垢、殺菌、滅藻、凈化、過(guò)濾、去除懸浮物各功能于一體,多功能智能控制的綜合水處理器,對(duì)水進(jìn)行多方面處理,其優(yōu)點(diǎn)為安全可靠、操作簡(jiǎn)單、維護(hù)方便、管理運(yùn)行費(fèi)用低。

  三、多相全程水處理器工作原理

  除垢、防垢:被處理的水在高頻多變電磁場(chǎng)作用下,它的物理特性發(fā)生變化,原來(lái)締結(jié)而成的鏈狀大分子斷裂成單個(gè)水分子,水中溶解鹽的正負(fù)離子被單個(gè)水分子包圍,運(yùn)動(dòng)速度降低,有效碰撞次數(shù)減少,靜電引力下降,破壞了離子間相互粘附集聚的特性,而趨于分散微粒狀態(tài),從而在受熱面或管壁上無(wú)法結(jié)垢,并沉淀于設(shè)備底部。

  同時(shí),由于水的偶極矩增大,使其與鹽的正負(fù)離子吸引力增大,對(duì)垢分子有破壞作用,使受熱面上或管壁上的積垢變得松軟,逐漸龜裂以至自行脫落,而達(dá)到除垢的目的。

  防腐、除鐵:水與金屬接觸所產(chǎn)生的腐蝕,從原理上講是電化學(xué)腐蝕,即原電池效應(yīng)。水系統(tǒng)全能處理器其原理是通過(guò)能量的轉(zhuǎn)換,抑制金屬中電子通過(guò)水的轉(zhuǎn)移而降低了電子轉(zhuǎn)移速度,進(jìn)而達(dá)到控制和緩解金屬在水中的腐蝕;同時(shí),當(dāng)水經(jīng)過(guò)處理后,水中產(chǎn)生的強(qiáng)氧化性新生態(tài)氧原子,對(duì)金屬壁形成一層致密的Fe3O4氧化膜,其化學(xué)特性很穩(wěn)定,使金屬和水隔離,更強(qiáng)的抑制了電化學(xué)腐蝕。其通過(guò)能量轉(zhuǎn)換的另一個(gè)功能是除鐵,它可將水中的大部分鐵銹在電磁場(chǎng)的作用下,得以吸附,并且在定時(shí)自動(dòng)排污時(shí)排出,同時(shí)達(dá)到除鐵、脫色、降低水質(zhì)電導(dǎo)率的目的。

  殺菌、滅澡:在一些水系統(tǒng)中,由于某種原因存在大量菌類、藻類,其雜質(zhì)、腐殖質(zhì)對(duì)水質(zhì)產(chǎn)生著嚴(yán)重的危害。水系統(tǒng)全能處理器在殺菌滅澡方面有其強(qiáng)大的功能。

  ●CD電暈放電法,即氧氣在高頻高壓多變電場(chǎng)的激發(fā)下,產(chǎn)生O3,其氧化還原電位高,殺菌速度快,可在數(shù)秒內(nèi)殺死水中的細(xì)菌和藻類,臭氧在密閉容器中衰減期長(zhǎng)達(dá)8-6小時(shí),且最終產(chǎn)物為氧氣或二氧化碳,無(wú)其它有害殘留物。

  過(guò)濾、排污:對(duì)于水中存在的懸浮物,水系列全能處理器設(shè)置了過(guò)濾、排污系統(tǒng),可將水中夾帶的大量雜質(zhì)及各種懸浮物通過(guò)過(guò)濾系統(tǒng)濾除,使出水得到干凈的水質(zhì),源水得以凈化。自動(dòng)排污可根據(jù)水質(zhì)情況和客房要求設(shè)定自動(dòng)排污時(shí)間和循環(huán)時(shí)間,其作用為定期清楚吸附在濾網(wǎng)上的雜物,金屬及細(xì)菌、藻類的沉淀,緩解過(guò)濾系統(tǒng)的負(fù)擔(dān),使水系統(tǒng)全能處理器始終處于良好的工作狀態(tài)。

  四、多相全程水處理器技術(shù)參數(shù)

  控制腐蝕率<0.09毫米/年防垢除垢效率>95%

  殺菌滅藻>93%過(guò)濾效率73%-98%

  壓力損失<0.03Mpa工作電壓200V±10% 50Hz

  安全絕緣電壓5000v功率200W—4000W

  工作環(huán)境要求-25 — +50℃相對(duì)濕度<95%

  適用介質(zhì)自來(lái)水、冷凍水、熱水、地表水、地下水、游泳池用水,工業(yè)循環(huán)冷卻水。

  五、多相全程水處理器安裝注意事項(xiàng)

  1、 設(shè)備主體與頂部距離旁通管,其它設(shè)備及墻體大于600mm

  2、 嚴(yán)禁在無(wú)水狀態(tài)下長(zhǎng)時(shí)間開(kāi)啟設(shè)備。

  3、 設(shè)備安裝形式應(yīng)為通旁式安裝,以便于在不停機(jī)狀態(tài)下檢修設(shè)備及反沖復(fù)活過(guò)濾系統(tǒng)。

  4、 設(shè)備操作:

  (1) 本設(shè)備有定時(shí)排污系統(tǒng),如長(zhǎng)期使用后需要反洗過(guò)濾系統(tǒng),請(qǐng)按下面步驟進(jìn)行

  (2) 反洗:(見(jiàn)安裝示范圖)打開(kāi)主干閥、排污閥,關(guān)閉設(shè)備進(jìn)水閥及電源,反洗時(shí)間視水質(zhì)情況而定,一般情況下,時(shí)間為10-30秒。

  (3) 返回工作狀態(tài):

  A接通220V電源

  B關(guān)閉排污閥

  C打開(kāi)進(jìn)水閥,關(guān)閉主干閥

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